Die Vorbereitung der CMOS-Wafer als »intelligentes« Substrat durch z. B. Planarisierung ist ebenfalls eine wichtige Entwicklungsaufgabe. Auf diesen »intelligenten Substraten« werden durch Post-CMOS Prozesse Schichten abgeschieden, strukturiert und damit neue, innovative Bauelemente auf den CMOS-Schaltungen realisiert.
Darüber hinaus ist das Fraunhofer IMS seit Jahren für seine Kompetenz in der Fertigung von Drucksensoren bekannt. Das Fraunhofer IMS entwickelt anwendungsspezifische Drucksensoren für medizinische Applikationen für verschiedene Anwendungen von Niederdruck/Vakuum über den barometrischen Druckbereich bis hin zu Drücken von einigen 10 bar. Das vorhandene Know-How erstreckt sich über verschiedene erprobte technologische Ansätze zur Fertigung von Drucksensoren - integriert in oder integriert auf CMOS-Schaltungen. Zur elektrischen Erfassung der Größe Druck können sowohl piezoresistive oder kapazitive Sensorelemente realisiert werden.
Die langjährige Erfahrung des Fraunhofer IMS in der Technologieentwicklung wird nicht nur in den eigenen Reinräumen genutzt. Externe Technologie-Entwicklung unterstützt unsere Kunden bei ihren eigenen Technologien. Dies reicht von der Charakterisierung einzelner Bauelemente über die Erweiterung von Technologien unserer Kunden mit zusätzlichen Bauelementen oder Optionen bis zur Entwicklung vollständiger Technologien in den Fertigungsstätten der Kunden. Darüber hinaus wurden bereits Technologien oder Prozessmodule vom Fraunhofer IMS in die Fertigungsstätten von Kunden transferiert.
Details zum Thema Spezialtechnologie am Fraunhofer IMS finden Sie in den nachfolgenden Links.