Das Fraunhofer IMS besitzt mehr als 30 Jahre Erfahrung in der Technologieentwicklung für Bildsensoren und hat als Entwicklungsbasis eine 200 mm CMOS-Linie für Technologien bis zu einer minimalen Strukturgröße von 0,35 µm. Das Fraunhofer IMS entwickelt Halbleiterbauelemente und Prozesse vom einzelnen Teilschritt bis zu vollständigen kundenspezifischen Bildsensoren. Durch die besondere Kombination aus einem hauseigenen CMOS-Reinraum und einem Mikrosystemtechnik Lab&Fab bietet das Fraunhofer IMS verschiedenste Fertigungsprozesse zur Realisierung neuer Technologien. Durch unsere umfangreiche mikroelektronische Expertise aus dem Halbleiter-, Bildsensoren und MEMS-Bereich können innovative und kompakte Mikrosysteme auf Wunsch bis zur Pilotserienfertigung geführt werden.