Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS
Für die Entwicklung von Drucksystemen stehen dem IMS mehrere Halbleiterfertigungstechnologien zur Verfügung. Unsere breit aufgestellte Infrastruktur umfasst unter anderem eine nach dem Automobil-Industrie-Standard zertifizierten CMOS-Reinraum zur Fertigung von monolithisch integrierten Drucksensoren. In dieser Technologie realisierte Systeme sind sognannte 1-Chip-Systeme, bei denen die Auswerteschaltung und der Drucksensor in einer 1,2 µm-Technologie gefertigt und auf einem Chip untergebracht sind.
Darüber hinaus können 2-Chip-Drucksensorsysteme realisiert werden, bei welchen die Schnittstellen-ASICs in einer 0,35 µm-Technologie und die Drucksensoren in der oben genannten größeren Technologie hergestellt werden. Die ASIC-Auswerteschaltung und die Sensoren werden mittels hausinterner Aufbau- und Verbindungstechnik zusammengefügt.
Neben der CMOS-Fertigungslinie ist am Fraunhofer IMS auch ein Mikrosystemtechnik (MST) Lab&Fab etabliert. In diesem zweiten Reinraum besteht ebenfalls die Möglichkeit 1-Chip-Systeme zu realisieren, indem die Sensorelemente, wie z. B. die drucksensitiven Membranen, mittels eines post-CMOS Prozesses oben auf das bestehende ASIC aufgebracht werden. Dieser post-CMOS-Prozess ist am Fraunhofer IMS entwickelt und lässt sich im MST-Lab & Fab bestens auf 200-mm CMOS-Wafern bewerkstelligen. Hierdurch eröffnet sich die Möglichkeit post-CMOS Sensorelemente nachträglich auf Auswerteschaltung aufzubringen, welche in noch kleineren CMOS-Technologien extern hergestellt werden können (z. B. 0,18 µm).
Für weitere Informationen, besuchen Sie bitte unsere Rubriken Infrastruktur, Kooperationsmodelle und Service & Know-How.