Technologien

Wir entwickeln kundenspezifische Drucksensorsysteme für verschiedene Anwendungen. Die verwendeten Technologien werden hier kurz vorgestellt.

Technologien der Pressure Sensor Systems (Drucksensorsysteme) am Fraunhofer IMS

Die Technologien für die Entwicklung von Drucksensorsystemen am Fraunhofer IMS werden vorgestellt.

Beispielanlage für die Waferreinigung bezüglich der Infrastruktur am IMS-Duisburg hier im Reinraum zur Fertigung der ASICs und Sensoren.
© Fraunhofer IMS

Mitarbeiter bei der Bedienung einer Anlage im MST-Lab&Fab des IMS-Duisburg

Das Bild ist durch eine beim IMS vorhandene Anlage erzeugt worden.  Zu sehen ist die Oberfläche einer mit Druck beaufschlagten Membran. Die Membran biegt sich entsprechend nach unten aus. Für die Herstellung der Membran wurde der Post-CMOS-Drucksensorprozess beim IMS verwendet
© Fraunhofer IMS

Von einer IMS-Anlage erzeugtes Bild einer mit Druck beaufschlagten Membran des Post-CMOS-Drucksensorprozesses.

Für die Entwicklung von Drucksystemen stehen dem IMS mehrere Halbleiterfertigungstechnologien zur Verfügung. Unsere breit aufgestellte Infrastruktur umfasst unter anderem eine nach dem Automobil-Industrie-Standard zertifizierten CMOS-Reinraum zur Fertigung von monolithisch integrierten Drucksensoren. In dieser Technologie realisierte Systeme sind sognannte 1-Chip-Systeme, bei denen die Auswerteschaltung und der Drucksensor in einer 1,2 µm-Technologie gefertigt und auf einem Chip untergebracht sind.

Darüber hinaus können 2-Chip-Drucksensorsysteme realisiert werden, bei welchen die Schnittstellen-ASICs in einer 0,35 µm-Technologie und die Drucksensoren in der oben genannten größeren Technologie hergestellt werden. Die ASIC-Auswerteschaltung und die Sensoren werden mittels hausinterner Aufbau- und Verbindungstechnik zusammengefügt.

Neben der CMOS-Fertigungslinie ist am Fraunhofer IMS auch ein Mikrosystemtechnik (MST) Lab&Fab etabliert. In diesem zweiten Reinraum besteht ebenfalls die Möglichkeit 1-Chip-Systeme zu realisieren, indem die Sensorelemente, wie z. B. die drucksensitiven Membranen, mittels eines post-CMOS Prozesses oben auf das bestehende ASIC aufgebracht werden. Dieser post-CMOS-Prozess ist am Fraunhofer IMS entwickelt und lässt sich im MST-Lab & Fab bestens auf 200-mm CMOS-Wafern bewerkstelligen. Hierdurch eröffnet sich die Möglichkeit post-CMOS Sensorelemente nachträglich auf Auswerteschaltung aufzubringen, welche in noch kleineren CMOS-Technologien extern hergestellt werden können (z. B. 0,18 µm).

Für weitere Informationen, besuchen Sie bitte unsere Rubriken Infrastruktur, Kooperationsmodelle und Service & Know-How.

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Pressure Sensor Systems (Home)

Wir entwickeln kundenspezifische Drucksensorsysteme für medizintechnische oder industrielle Anwendungen.

Anwendungen

Wir entwickeln kundenspezifische Drucksensorsysteme für medizintechnische oder industrielle Anwendungen. Diese werden hier kurz vorgestellt.

Leistungen

Wir bieten kundenspezifische Leistungen im Bereich der Drucksensorsysteme an. Diese werden hier kurz vorgestellt.

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